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ALD原子層沉積

所屬分類：

工藝設備

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產品描述

原子層沉積設備

型號：TLE-AL200S

參數：

反應室：不銹鋼反應腔室，含樣品臺，高度＜50mm

真空系統：含油泵、真空計（全量程規）

氣體流量控制系統：含高精度進口流量計（兩路氮氣）

控制系統：含硬件控制器、溫度控制器和工藝過程控制軟件，一鍵停止

操作電腦：預裝windows系統和工藝過程控制軟件的筆記本電腦一臺

前驅體源輸運系統：每路配一套50ml鋼瓶、一個氣動閥和一個手動閥

機架：鋁型材機架，噴漆面板

其他：含取樣夾具等標準附件