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RIE反應離子刻蝕機

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產品描述

RIE反應離子刻蝕機特點

刻蝕范圍：硅基：Si、SiNx、SiO2、Ge、GeSi等;有機物、Ⅲ-Ⅴ、藍寶石、SiC、金屬(Au、Ag、W)等

表面改性、干法去膠等

支持8英寸或以下尺寸整片以及碎片刻蝕

氣路數量可根據用戶需求配置

水冷控溫，選配背氦控溫

軟硬件互鎖機制

基于Windows操作軟件，具備系統監測、工藝編輯、參數顯示等功能，具備儲存工藝日志和操作記錄的能力

可基于用戶需求定制